B案例概要:

・场地类型:电子产品工厂(日本关西地区,东证一部上市企业)

・场地面积:场地面积:85,200m2 ・修复面积:12,455m2 ・修复方量:118,175m3

・初始污染情况:

   土壤:四氯乙烯(2.4mg/L,超标240倍),三氯乙烯(0.1mg/L,超标3倍)

   cis-1,2-二氯乙烯(0.12mg/L,超标3倍),二氯甲烷(0.06mg/L,超标3倍)

・采用修复技术:该场地为运行中工厂,业主选择採用原位生物修复技术


al02